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极端的超紫(EUV)光刻是一种快速增长的现实。EUV启用的前所未有的纳米级设备只能通过Veeco技术实现极端的光掩模精度。雷竞技官方网址由于集成电路(IC)特征尺寸缩小,所以用于制造它们的设计。制造可以支持更精细的几何形状的光掩模要求革命思维。我们可以共同创造大批量生产解决方案。

复杂的模式

Photomasks从概念化中携带IC设计师的愿景。收缩设备节点为图案化过程增加了挑战,从Photomask开始。通过故意协作,我们可以自定义我们的工具和系统以提供无缺陷的光掩模。

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