耐氧性来源

可延长使用寿命抗腐蚀设备


实现与Veeco的耐氧,长寿命光源增加正常运行时间和降低维修成本。雷竞技官方网址可用于温度高达1150℃,氧分压高至5毫乇。基底加热器也可用于温度高达800℃和5毫乇的氧分压。

  • SUMO坩埚可提供最佳的通量分布和最小化的耗尽效应
  • 氧分压达到5milliTorr
  • 温度高达1150℃
  • 20多名在该领域

氧化物材料的研究已经过去,因为它在IC产业的重要性几年大大增加,并由于各种各样的电子和光学性质使用这些材料成为可能。

由于氧的腐蚀性,在氧气环境中进行薄膜的研究往往呈现设备的挑战。例如,常见的是在10-5乇的氧气环境热蒸发材料或同时保持在800℃的基板温度高。高氧气分压和温度大大降低在源极和基片加热器的加热元件的寿命。其结果是,该设备正常运行受到损害,从而导致更短的运动长度和高昂的维修费用。

使用特殊的耐氧的材料,相对于传统的材料,如钼和钽,现在可以操作Veeco的创新和成熟的源和基片加热器在高氧气分压的环境中。雷竞技官方网址耐氧源是当前可用的自Veeco温度高达1150℃,氧气分压力高达5milliTorr。雷竞技官方网址基底加热器也可用于温度高达800℃,并5milliTorr的氧气分压。

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