推进GaN MOCVD系统的研发和生产

基于Veeco久经雷竞技官方网址考验的涡轮盘技术,加速下一代设备的工艺开发


雷竞技官方网址Veeco的Propel™MOCVD系统被设计为一个灵活的平台,用于氮化物应用的早期研发和小型生产需求。该反应器在运行期间可在硅、蓝宝石、碳化硅等多种基片上处理9×2”、3×4”、1×6”和1×8”,无需任何硬件修改。该系统可沉积高质量的氮化镓薄膜,用于电力、射频和光子学等多种应用。R200反应器基于Veeco领先的涡盘®设计,包括iso法雷竞技官方网址兰™和SymmHeat™技术,可在整个晶圆片上提供层流和均匀的温度分布。客户可以轻松地将流程从Veeco D180、K465i™或MaxBright™系统转移到P雷竞技官方网址ropel GaN MOCVD平台。

获取关于如何在200mm(8”)硅衬底上使用Veeco®Propel®TurboDisc®MOCVD工具生长GaN HEMT结构的基本工艺信息。雷竞技官方网址本信息不被设计、打算、推荐或授权用于任何类型的商业系统或应用程序。

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