自组装单层(Sams)

自组装单层(Sams)

Savannah®Sams套件选项可通过在气相中的自组装中通过自组装沉积各种有机单层。由于SAMS沉积在气相中的自动性质,即使在更严格的3D纳米结构上,SAMS薄膜也高度保形且均匀。另外,完全组装的单层可以在几分钟内实现,而不是在液相中的24-48小时内实现。结合原位诊断(QCM,椭圆形)和ALD能力,这代表了优异的研发解决方案,以沉积各种有机/无机薄膜。

气相沉积的Sams

自组装单层的气相沉积代表了一种通用和低成本的溶液,以快速挥发各种表面,包括金属,氧化物,聚合物和纺织品。通过低热预算过程(<100°C),可以在原子尺度上定制表面性能,以实现最佳性能,包括控制润湿性(疏水性,亲水性),粘附和静态,电气,化学和生化特性的控制,以命名几个。SAM还提供理想的载体以锚定纳米颗粒,生物分子或用作种子层。它们也已成功用于选择性区域沉积。

通过气相沉积,可以在5-10分钟内均匀地沉积稳定的单层。包括在MEMS和NEM中遇到的复杂3D微型和纳米结构。这种干燥的真空基础方法可确保样品清洁度和与我们的ALD过程集成,使研究人员通过杂种有机/无机合成来调节表面性质。

可以沉积多种SAMS薄膜,包括硅烷,硫醇和膦酸。

SAMS应用程序

  • 选择性区域ALD的抑制层
  • 有机薄膜晶体管
  • 柔性电子器件的渗透涂层
  • 纳米结构官能化
  • 对mems的反沉静
  • 生物传感/细胞粘附/蛋白质吸附
  • 用于润湿性/渗透控制的大表面积涂层

SAMS选项可实现各种表面的快速功能化以控制润湿性。这里,在10min暴露后,用FDT涂层官能化的硅表面的实例,导致115°的水接触角。

119˚与铝种子层FDT的水接触角

SAMS套件选项可以精确控制SAM剂量,以实现最佳性能和再现性

使用气相沉积的SAM提供快速和多功能的方法来选择性地沉积ALD膜。在以下实施例中,我们在铜对SiO 2上选择性地沉积C18 SAM,以抑制氮化铪的ALD生长,但不抑制铜的氮化铪生长但不含SiO 2。这项工作是与IMEC的Silvia Armini的研究小组合作的一部分。

SAMS套件规格

系统 Savannah®S100,200和300
最大限度。#套件/工具 最多2个
衬底尺寸 S300可达300毫米
典型的运行时间 5-20分钟
剂量控制 ±0.5μmol.
前体温度 高达200˚C.
蓄能器温度 100˚C压力表
高达150˚C(W / O仪表)
剂量压力范围 0-10与巴拉龙的托尔
共同反应物 H2O,臭氧,空气
种子层 铝氧化物和金属
Adixen 2021C2带净化套件
软态。一体化,
终点控制
以标准实施
Savannah®软件
FDT接触角 >110㎡.
飞行角度 >105˚.
DTS角度 > 100岁